Newsletter-Automne 2026 | Fabricant de résistances à film mince | FIRSTOHM

Révolution de l'alimentation des centres de données IA - Solutions de résistances de décharge à haute fiabilité pour les applications BBU   La croissance rapide de l'IA générative, des GPU haute performance et des serveurs d'IA entraîne une demande accrue d'efficacité énergétique et de fiabilité dans les centres de données. Alors que l'industrie adopte des architectures d'alimentation HVDC 800V pour améliorer l'efficacité énergétique, les unités de secours par batterie (BBU) sont devenues essentielles pour garantir un fonctionnement ininterrompu lors des interruptions de courant. Dans les circuits de décharge BBU, les résistances doivent supporter des tensions élevées et une énergie de pulse élevée tout en maintenant une fiabilité à long terme. S'appuyant sur des décennies d'expertise dans les technologies de résistances MELF et à haute surtension, FIRSTOHM fournit des solutions de résistances de décharge à haute fiabilité conçues pour des systèmes d'alimentation de centres de données AI exigeants.FIRSTOHM est un fabricant de résistances MELF haute performance, de résistances SMD, de résistances en film métallique, de résistances de surtension, de résistances bobinées, de résistances de précision, de résistances haute tension, de résistances haute puissance, de résistances en oxyde métallique, de résistances en film mince et de résistances fixes, basé à Taïwan depuis 1969. FIRSTOHM est l'une des rares entreprises capables de concevoir des résistances MELF à film mince selon les exigences des clients, avec une haute qualité et fiabilité. Nous sommes spécialisés dans les résistances à film mince depuis 1969, fabricant certifié ISO9001/14001. Plus de 56 ans d'expérience dans l'industrie pour la conception et la fabrication de résistances.

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Newsletter-Automne 2026 | Fabricant de Résistances à Couche Mince | FIRSTOHM

Newsletter FIRSTOHM - Automne 2026 | Plus de 56 ans d'expérience dans la fabrication de résistances

Newsletter FIRSTOHM - Automne 2026

Newsletter-Automne 2026

Révolution de l'alimentation des centres de données IA - Solutions de résistances de décharge à haute fiabilité pour les applications BBU
 
La croissance rapide de l'IA générative, des GPU haute performance et des serveurs d'IA entraîne une demande accrue d'efficacité énergétique et de fiabilité dans les centres de données. Alors que l'industrie adopte des architectures d'alimentation HVDC 800V pour améliorer l'efficacité énergétique, les unités de secours par batterie (BBU) sont devenues essentielles pour garantir un fonctionnement ininterrompu lors des interruptions de courant.
Dans les circuits de décharge BBU, les résistances doivent supporter des tensions élevées et une énergie de pulse élevée tout en maintenant une fiabilité à long terme. S'appuyant sur des décennies d'expertise dans les technologies de résistances MELF et à haute surtension, FIRSTOHM fournit des solutions de résistances de décharge à haute fiabilité conçues pour des systèmes d'alimentation de centres de données AI exigeants.


01 Sep, 2026 FIRSTOHM
Aperçus techniques

Pourquoi les résistances de décharge BBU sont-elles si importantes ?

Dans les systèmes d'alimentation BBU, le condensateur de liaison CC peut conserver des tensions dangereuses même après l'arrêt du système, l'entretien ou des conditions de défaut. Une résistance de décharge correctement conçue dissipe en toute sécurité l'énergie stockée, réduisant la tension du condensateur à un niveau sûr dans le délai requis.
 
Les solutions de résistances de décharge efficaces aident :
• Améliorer la sécurité de maintenance et de service
• Réduire les risques associés à la tension résiduelle du DC-Link
• Protéger les systèmes électriques et les composants électroniques sensibles
• Répondre aux exigences de sécurité et de fiabilité du système
• Améliorer la stabilité à long terme des architectures d'alimentation des serveurs IA
 
Parce que le processus de décharge peut générer une puissance instantanée élevée et une énergie d'impulsion, les résistances de décharge doivent fournir plus qu'une simple capacité de gestion de puissance.
 
Les exigences de performance clés incluent :
• Haute capacité de résistance aux impulsions et aux surtensions
• Faible dérive de résistance et fiabilité à long terme
• Dissipation de chaleur efficace
• Conceptions de boîtiers compacts compatibles SMT pour la fabrication automatisée

Étude de cas : Solution de résistance de décharge éprouvée pour l'application des systèmes BBU de centre de données IA.

La solution de résistance de décharge de FIRSTOHM a été adoptée avec succès dans un système BBU de centre de données AI, où une haute fiabilité et des performances de pulse robustes sont essentielles.
 
Exigences des clients
• Haute fiabilité pour les applications critiques
• Capacité supérieure de gestion de l'énergie de pulse et de surtension
• Compatibilité avec les architectures DC-Link à haute tension
• Stabilité de résistance et performance à long terme
 
Conditions de décharge réelles
588 V / 100 μF / 1,5 secondes
 
Dans ces conditions de décharge, la résistance doit supporter une puissance instantanée et une énergie d'impulsion substantielles. Cela impose des exigences strictes en matière de tolérance aux surtensions, de stabilité thermique et de fiabilité à long terme, rendant le choix de la résistance un facteur clé pour la sécurité et la performance globales du système.

Solution recommandée de FIRSTOHM

SRM301 Haute surtension MELF resistor

Application BBU de centre de données AI, FIRSTOHM recommande la résistance à haute surtension SRM301 MELF resistor

Pour cette application de BBU de centre de données AI, FIRSTOHM recommande le SRM301 à haute surtension MELF resistor. En adoptant une configuration en 2 séries et 2 parallèles, la solution répartit efficacement la tension, la puissance et le stress thermique pendant le processus de décharge, améliorant ainsi la capacité globale à gérer les surtensions et la fiabilité du système.

  • Les principaux avantages incluent :

  • Excellente capacité de résistance aux impulsions et aux surtensions
  • Fonctionnement fiable dans des circuits de liaison CC à haute tension
  • Gestion thermique améliorée et dissipation de chaleur
  • Stabilité et fiabilité à long terme améliorées
  • Conception SMT compacte pour assemblage automatisé

Cette solution a été déployée avec succès dans des systèmes BBU de centre de données AI, démontrant des performances fiables dans des conditions de décharge exigeantes.

Validation des performances

Les tests sur le terrain réalisés dans des conditions d'application réelles chez le client ont démontré l'excellente stabilité de résistance du SRM301 High-Surge MELF resistor dans les circuits de décharge BBU.

  • Conditions de test

  • Cycles de charge/décharge : 1 000 cycles
  • Résultat du test : RÉUSSI
  • Changement de résistance après le test : ΔR = 0,035%

Résultats des tests

Après 1 000 cycles de charge et de décharge, le SRM301 a maintenu une performance de résistance exceptionnellement stable, avec un changement de résistance de seulement 0,035 %. Les résultats confirment sa capacité à résister à des charges de pulsation répétitives tout en offrant une excellente stabilité et fiabilité à long terme.

Cette validation démontre que le SRM301 est une solution très adaptée pour les circuits de décharge BBU DC-Link, où l'énergie de pulse répétée, la fiabilité du système et la sécurité opérationnelle sont des exigences critiques.

Des centres de données IA aux systèmes d'alimentation à haute fiabilité

La croissance rapide des centres de données IA pousse à la transition vers des tensions plus élevées, une plus grande densité de puissance et une meilleure efficacité énergétique. Des architectures HVDC de 800V et des systèmes BBU aux circuits de liaison CC, de précharge et de décharge, les résistances peuvent être de petits composants, mais elles jouent un rôle crucial dans la sécurité du système, la gestion de l'énergie et la fiabilité globale.
 
Chez FIRSTOHM, nous continuons à faire progresser notre expertise dans les technologies MELF, Power MELF et les résistances résistantes aux surtensions pour aider nos clients à répondre aux exigences exigeantes des applications de nouvelle génération. Nos solutions sont conçues pour soutenir le besoin croissant de résistances à haute fiabilité dans les centres de données IA, les systèmes de stockage d'énergie, les véhicules électriques et les applications d'alimentation électrique haute puissance.

Partenaire avec FIRSTOHM pour des solutions d'alimentation fiables

Avec des performances éprouvées dans des applications de décharge BBU exigeantes, FIRSTOHM propose des solutions de résistances conçues pour des tensions élevées, une énergie d'impulsion élevée et une fiabilité à long terme, permettant des systèmes d'alimentation plus sûrs et plus efficaces pour l'ère de l'IA.

FIRSTOHM en action

Rencontrez FIRSTOHM à electronica 2026 à MunichRencontrez FIRSTOHM à electronica 2026 à Munich

Découvrez nos dernières solutions de résistances à haute fiabilité pour les centres de données IA et les applications d'alimentation avancées. Nous avons hâte de vous accueillir à electronica 2026, Munich, Allemagne.

★ 10-13 nov. 2026 : electronica 2026, Munich, Allemagne

FIRSTOHM participe à electronica Munich 2026.

•Lieu : Messe München, Allemagne
•Numéro de stand : Hall A6 / Stand 514

Construire des systèmes d'alimentation haute performance plus fiables avec FIRSTOHM

Si vous avez des questions concernant les applications de décharge BBU 800V ou la série SRM, veuillez contacter votre représentant commercial local ou nous joindre par les canaux ci-dessous :

📧 Email : qrc@firstohm.com

🌐 Site Web : www.firstohm.com

Chez FIRSTOHM, nous nous engageons à fournir des solutions de résistances à haute fiabilité qui soutiennent la prochaine génération de centres de données IA et de systèmes d'alimentation avancés.

Merci pour votre soutien continu à FIRSTOHM.

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Quoi de neuf chez FIRSTOHM - Automne 2026
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Résistances de décharge conçues pour les circuits de décharge DC-Link dans les BBU pour les applications de calcul AI.

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Située à Taïwan depuis 1969, First resistor & condenser Co. Ltd. est un fabricant de résistances MELF. Leurs principaux résistances MELF à film mince incluent des résistances de grade Automotive, des résistances montées en surface, des résistances fusibles, des résistances SMD, des résistances de puce, des résistances fixes et des résistances à film mince fusibles, qui sont largement utilisées dans des applications industrielles telles que l'alimentation électrique, le compteur intelligent, l'onduleur solaire, le dispositif de stockage d'énergie, le véhicule électrique, l'équipement de communication et le dispositif médical.

FIRSTOHM est l'une des rares entreprises capables de concevoir des résistances MELF à film mince selon les exigences des clients, avec une haute qualité et fiabilité. Nous sommes spécialisés dans les résistances à film mince depuis 1969, fabricant certifié ISO9001/14001.

FIRSTOHM fournit aux clients des résistances à film carbone et à film métallique de haute qualité depuis 1969, avec à la fois une technologie avancée et 56 ans d'expérience, FIRSTOHM s'assure que les demandes de chaque client sont satisfaites.